{"id":119075,"date":"2022-09-30T10:17:41","date_gmt":"2022-09-30T02:17:41","guid":{"rendered":"https:\/\/www.alpapowder.com\/119075\/"},"modified":"2022-09-29T14:33:48","modified_gmt":"2022-09-29T06:33:48","slug":"tecnologia-de-produccion-de-polvo-de-silice-esferico-de-baja-radiactividad-y-alta-pureza","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/www.alpapowder.com\/es\/119075\/","title":{"rendered":"Tecnolog\u00eda de producci\u00f3n de polvo de s\u00edlice esf\u00e9rico de baja radiactividad y alta pureza"},"content":{"rendered":"

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El polvo de silicio esf\u00e9rico se usa ampliamente en el empaque de circuitos integrados debido a su excelente fluidez y bajo coeficiente de expansi\u00f3n t\u00e9rmica. Con el desarrollo de la tecnolog\u00eda de empaquetado de circuitos integrados a gran y ultra gran escala, se obtienen elementos radiactivos para evitar errores leves en los dispositivos semiconductores. En particular, el micropolvo de s\u00edlice esf\u00e9rica de alta pureza y baja radiactividad con un contenido de uranio (U) (fracci\u00f3n de masa) inferior a 1 \u00d7 10-9 se ha convertido en un foco de investigaci\u00f3n en los \u00faltimos a\u00f1os.<\/p>\n

Primero, el elemento de uranio (U6+) en el polvo de silicio ultrafino se dispersa en la suspensi\u00f3n \u00e1cida, y luego el aerogel de SiO2<\/a> y el dispositivo de adsorci\u00f3n mesoporosa compuesta de cer\u00e1mica de nido de abeja se utiliza para adsorberlo para completar la selecci\u00f3n y purificaci\u00f3n del material, de modo que el silicio ultrafino polvo El contenido total del elemento uranio (U) se reduce a menos de 1 \u00d7 10-9, y finalmente se obtiene polvo de s\u00edlice esf\u00e9rico de alta pureza y baja radiactividad mediante el m\u00e9todo de fusi\u00f3n por llama y tecnolog\u00eda de posprocesamiento no contaminante. El dispositivo de adsorci\u00f3n mesoporoso se puede separar f\u00e1cil y r\u00e1pidamente de la suspensi\u00f3n una vez que se completa la adsorci\u00f3n, y puede realizar el reciclaje y la amplificaci\u00f3n a gran escala; y las muestras obtenidas tienen las caracter\u00edsticas de alta esfericidad y distribuci\u00f3n de tama\u00f1o de part\u00edcula controlable y, al mismo tiempo, el rendimiento de la aplicaci\u00f3n, como el rendimiento de fluidez, es bueno.<\/p>\n

1. Selecci\u00f3n y purificaci\u00f3n de micros\u00edlice<\/p>\n

El primer paso es pretratar el micropolvo de silicio que contiene uranio (U).<\/p>\n

El segundo paso es preparar un dispositivo de adsorci\u00f3n mesoporoso.<\/p>\n

El tercer paso, adsorci\u00f3n y purificaci\u00f3n.<\/p>\n

En el experimento, se seleccion\u00f3 para la purificaci\u00f3n polvo de silicio com\u00fan con un contenido de uranio (U) de 9,7 \u00d7 10-9. Si solo se us\u00f3 agua desionizada para purificar el polvo de silicio ultrafino, el contenido de elementos de uranio (U) en el material fue solo de 9,7 \u00d7 10-9. Se reduce a 9,0 \u00d7 10-9; cuando el polvo de silicio ultrafino se dispersa con una soluci\u00f3n de pH\u22644,5, el contenido de elementos de uranio (U) en el polvo de silicio purificado se puede reducir a 7,3 \u00d7 10-9.<\/p>\n

Sin embargo, debido a que no se elimin\u00f3 el elemento de uranio hexavalente disperso en la suspensi\u00f3n \u00e1cida, el elemento de uranio se vuelve a absorber en la superficie de las part\u00edculas de micropolvo de silicio durante el proceso de sedimentaci\u00f3n y secado, lo que reduce el efecto de purificaci\u00f3n. elemento de uranio Despu\u00e9s de usar el dispositivo de adsorci\u00f3n mesoporoso, el elemento de uranio hexavalente (U6+) disperso en la suspensi\u00f3n podr\u00eda ser absorbido de manera efectiva por el aerogel a base de SiO2<\/a> y disminuir gradualmente con el aumento de los tiempos de adsorci\u00f3n. Despu\u00e9s de tres experimentos de purificaci\u00f3n y separaci\u00f3n, el contenido de elementos de uranio (U) se puede reducir a 6 \u00d7 10-10. Esto demuestra que cuando la pureza del material no puede cumplir con los requisitos para la producci\u00f3n directa de polvo de s\u00edlice esf\u00e9rico de alta pureza y baja radioactividad, el contenido de uranio tambi\u00e9n se puede reducir mediante el uso de la tecnolog\u00eda de purificaci\u00f3n selectiva. Los resultados experimentales tambi\u00e9n muestran que el uranio en el micropolvo de silicio se puede separar de manera efectiva mediante lavado con \u00e1cido, y el uranio separado se puede adsorber de manera eficiente mediante el material de adsorci\u00f3n mesoporoso. Sobre la base de esta tecnolog\u00eda de proceso, se puede llevar a cabo la producci\u00f3n por lotes posterior.<\/p>\n

2. Dise\u00f1o de distribuci\u00f3n de tama\u00f1o de part\u00edcula y esferoidizaci\u00f3n<\/p>\n

Primero, agregue protecci\u00f3n cer\u00e1mica de zirconia a la superficie de todas las partes con las que el polvo de silicio ultrafino pueda entrar en contacto en el proceso posterior para garantizar que el elemento de uranio (U) no se introduzca en el proceso posterior para causar contaminaci\u00f3n secundaria, y luego coloque el polvo de silicio ultrafino en el horno de esferoidizaci\u00f3n, a trav\u00e9s del campo de temperatura (1800 ~ 2200 \u2103), el campo de flujo de aire (con ox\u00edgeno como gas portador y oxidante, gas natural como gas, la relaci\u00f3n del caudal de el gas y el oxidante es 1,05) y el flujo de material (50 ~ 500 kg\/h) Se lleva a cabo el control de esferoidizaci\u00f3n, y el polvo de silicio ultrafino permanece en el campo de temperatura durante 0,1-3 s bajo cierta presi\u00f3n de aire. Los productos esferoidizados se someten a la clasificaci\u00f3n y composici\u00f3n del tama\u00f1o de part\u00edcula, y la distribuci\u00f3n del tama\u00f1o de part\u00edcula correspondiente se dise\u00f1a de acuerdo con los diferentes requisitos de empaque.<\/p>\n

El proceso de producci\u00f3n reduce hasta cierto punto la dependencia excesiva de materias primas de alta pureza para la producci\u00f3n de micropolvo de s\u00edlice esf\u00e9rica de alta pureza y baja radioactividad.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"