![\"\"](\"https:\/\/www.alpapowder.com\/wp-content\/uploads\/2023\/03\/Titanium-dioxide-1.jpeg\")
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El di\u00f3xido de titanio de rutilo es un semiconductor con un ancho de banda prohibida de aproximadamente 3,0 eV. Tiene una fuerte actividad fotocatal\u00edtica sin modificaci\u00f3n de la superficie, por lo que puede producir radicales libres de ox\u00edgeno altamente activos bajo la radiaci\u00f3n de los rayos ultravioleta solares. , este radical libre de ox\u00edgeno puede ejercer una fuerte capacidad de oxidaci\u00f3n, lo que da\u00f1ar\u00e1 el medio alrededor del di\u00f3xido de titanio y afectar\u00e1 la vida \u00fatil del producto. Por lo tanto, la modificaci\u00f3n de la superficie es una tarea extremadamente importante en la producci\u00f3n y procesamiento de di\u00f3xido de titanio.<\/p>\n
La modificaci\u00f3n de la superficie es el uso de aditivos modificadores para reaccionar con la superficie del di\u00f3xido de titanio, cambiando as\u00ed las caracter\u00edsticas de la superficie y mejorando el rendimiento del producto. En la actualidad, la modificaci\u00f3n de la superficie del di\u00f3xido de titanio se divide aproximadamente en dos m\u00e9todos: recubrimiento inorg\u00e1nico y recubrimiento org\u00e1nico.<\/p>\n
1. Recubrimiento inorg\u00e1nico de di\u00f3xido de titanio<\/p>\n
El recubrimiento inorg\u00e1nico consiste en recubrir la superficie de las part\u00edculas de di\u00f3xido de titanio con una pel\u00edcula delgada inorg\u00e1nica de una o varias capas mediante una reacci\u00f3n de sedimentaci\u00f3n, formando una barrera entre las part\u00edculas y el medio, para mejorar el rendimiento del di\u00f3xido de titanio. La modificaci\u00f3n de la superficie inorg\u00e1nica del di\u00f3xido de titanio generalmente se lleva a cabo mediante recubrimiento de aluminio, recubrimiento de silicio, recubrimiento de circonio y m\u00faltiples m\u00e9todos de recubrimiento mixto.<\/p>\n
Para el revestimiento de silicio, la pel\u00edcula formada en condiciones neutras y ligeramente \u00e1cidas es relativamente \u00abesponjosa\u00bb, mientras que la pel\u00edcula formada en condiciones alcalinas es relativamente densa, generalmente a trav\u00e9s de la hidr\u00f3lisis de silicato de sodio para generar silicio. Las micelas se fijan luego en la superficie de titanio. di\u00f3xido a trav\u00e9s de enlaces Ti-O-Si y, al mismo tiempo, la formaci\u00f3n de enlaces Si-O-Si tambi\u00e9n se puede utilizar para garantizar que la pel\u00edcula sea continua y uniforme.<\/p>\n
Para el recubrimiento de aluminio, el enlace Ti-O-Al se forma a trav\u00e9s de la reacci\u00f3n de OH-Al y el grupo -OH en la superficie del di\u00f3xido de titanio. El aumento del n\u00famero de racimos facilita el recubrimiento. Al mismo tiempo, en condiciones de pH alto, la tasa de crecimiento direccional de OH-Al ocupa una posici\u00f3n dominante en relaci\u00f3n con la tasa de sedimentaci\u00f3n cuando se eleva la temperatura, y la morfolog\u00eda de la pel\u00edcula cambia de capas uniformes y continuas similares a l\u00e1minas a fl\u00f3culos relativamente sueltos. .<\/p>\n
El recubrimiento inorg\u00e1nico se divide espec\u00edficamente en dos m\u00e9todos: recubrimiento seco y recubrimiento h\u00famedo seg\u00fan diferentes m\u00e9todos de procesamiento.<\/p>\n
(1) recubrimiento seco de di\u00f3xido de titanio<\/p>\n
En el recubrimiento seco, los haluros met\u00e1licos generalmente se adhieren a la superficie del di\u00f3xido de titanio mediante rociado de aire y, despu\u00e9s del tostado y la oxidaci\u00f3n, se introduce vapor caliente para promover su hidr\u00f3lisis y formar una pel\u00edcula delgada que recubre la superficie de la part\u00edcula.<\/p>\n
(2) recubrimiento h\u00famedo de di\u00f3xido de titanio<\/p>\n
El recubrimiento h\u00famedo se lleva a cabo principalmente en medio acuoso, que tambi\u00e9n se subdivide en tres tipos: m\u00e9todo de ebullici\u00f3n, m\u00e9todo de neutralizaci\u00f3n y m\u00e9todo de carbonizaci\u00f3n.<\/p>\n
2. Recubrimiento org\u00e1nico de di\u00f3xido de titanio<\/p>\n
El historial de desarrollo del recubrimiento org\u00e1nico es m\u00e1s corto que el del recubrimiento inorg\u00e1nico, pero se desarrolla muy r\u00e1pidamente debido a las caracter\u00edsticas de dosis peque\u00f1a (generalmente solo del 0,1 % al 1 % del peso del pigmento) y gran efecto. Hay tres m\u00e9todos principales de recubrimiento org\u00e1nico en el laboratorio, a saber, el m\u00e9todo h\u00famedo de dispersi\u00f3n de alta velocidad, el m\u00e9todo de dispersi\u00f3n por vibraci\u00f3n y el m\u00e9todo de pulverizaci\u00f3n con m\u00e1quina de gas en polvo. En el proceso de experimentaci\u00f3n diario, adoptamos principalmente el m\u00e9todo h\u00famedo de dispersi\u00f3n de alta velocidad para el procesamiento.<\/p>\n
Generalmente, en el proceso de recubrimiento org\u00e1nico, una parte del agente de tratamiento org\u00e1nico se conecta a la superficie del di\u00f3xido de titanio por adsorci\u00f3n f\u00edsica, y la otra parte reacciona con los grupos hidroxilo en la superficie de las part\u00edculas y luego se combina estrechamente con el superficie del di\u00f3xido de titanio. Se utilizan dispersantes, agentes de acoplamiento, tensioactivos, etc.<\/p>\n
3. Recubrimiento compuesto con di\u00f3xido de titanio.<\/p>\n
Dado que el recubrimiento inorg\u00e1nico y el recubrimiento org\u00e1nico tienen su propio \u00e9nfasis. En t\u00e9rminos generales, el prop\u00f3sito principal del recubrimiento inorg\u00e1nico es reducir la actividad fotocatal\u00edtica del di\u00f3xido de titanio, mejorar su resistencia a la intemperie, aumentando as\u00ed la vida \u00fatil del producto, mientras que el prop\u00f3sito principal del recubrimiento org\u00e1nico es mejorar la capacidad de dispersi\u00f3n del producto en varios medios y estabilidad de dispersi\u00f3n.<\/p>\n
Los dos m\u00e9todos no pueden reemplazarse entre s\u00ed, por lo que en las operaciones de aplicaci\u00f3n pr\u00e1ctica, el modo de operaci\u00f3n del primer recubrimiento inorg\u00e1nico y luego la modificaci\u00f3n org\u00e1nica se usa principalmente para modificar la superficie de las part\u00edculas de di\u00f3xido de titanio para lograr el prop\u00f3sito, es decir, usar silicio, inorg\u00e1nico soluble fuentes como el aluminio y el zirconio (como el di\u00f3xido de silicio, el \u00f3xido de aluminio, etc.) completan una o incluso varias capas de recubrimientos inorg\u00e1nicos en sus respectivas condiciones de temperatura y pH adecuadas para mejorar su resistencia a la intemperie. Luego, seleccione una estructura de puente adecuada para conectar grupos de \u00e1cidos grasos o \u00e1cidos arom\u00e1ticos con una fuerte hidrofilia para mejorar su dispersabilidad en agua y estabilidad de dispersi\u00f3n.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"
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