{"id":131332,"date":"2024-03-18T13:55:37","date_gmt":"2024-03-18T05:55:37","guid":{"rendered":"https:\/\/www.alpapowder.com\/131332\/"},"modified":"2024-03-18T13:55:38","modified_gmt":"2024-03-18T05:55:38","slug":"la-fuerza-central-de-los-equipos-semiconductores-los-componentes-de-carburo-de-silicio","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/www.alpapowder.com\/es\/131332\/","title":{"rendered":"La \u201cfuerza central\u201d de los equipos semiconductores: los componentes de carburo de silicio"},"content":{"rendered":"

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El carburo de silicio (SiC) es un material cer\u00e1mico estructural con excelentes propiedades. Las piezas de carburo de silicio, es decir, piezas de equipos hechas de carburo de silicio y sus materiales compuestos como materiales principales, tienen las caracter\u00edsticas de alta densidad, alta conductividad t\u00e9rmica, alta resistencia a la flexi\u00f3n, gran m\u00f3dulo el\u00e1stico, etc., y se pueden adaptar a oblea. epitaxia, grabado, etc. Debido al entorno de reacci\u00f3n hostil altamente corrosivo y de temperatura ultraalta en el proceso de fabricaci\u00f3n, se usa ampliamente en los principales equipos semiconductores, como equipos de crecimiento epitaxial, equipos de grabado y equipos de oxidaci\u00f3n\/difusi\u00f3n\/recocido.<\/p>\n

Seg\u00fan la estructura cristalina, existen muchas formas cristalinas de carburo de silicio. Actualmente, los SiC comunes son principalmente de tipo 3C, 4H y 6H. Las diferentes formas cristalinas de SiC tienen diferentes usos. Entre ellos, el 3C-SiC tambi\u00e9n suele denominarse \u03b2-SiC. Un uso importante del \u03b2-SiC es como pel\u00edcula y material de recubrimiento. Por lo tanto, el \u03b2-SiC es actualmente el material principal para el recubrimiento a base de grafito.<\/p>\n

Seg\u00fan el proceso de preparaci\u00f3n, las piezas de carburo de silicio se pueden dividir en carburo de silicio por deposici\u00f3n qu\u00edmica de vapor (CVD SiC), carburo de silicio sinterizado por reacci\u00f3n, carburo de silicio sinterizado por recristalizaci\u00f3n, carburo de silicio sinterizado a presi\u00f3n atmosf\u00e9rica, carburo de silicio sinterizado por prensado en caliente, sinterizaci\u00f3n por prensado isost\u00e1tico en caliente y Carbonizaci\u00f3n Silicio, etc.<\/p>\n

Piezas de carburo de silicio<\/p>\n

1. Piezas de carburo de silicio CVD<\/p>\n

Los componentes de carburo de silicio CVD se utilizan ampliamente en equipos de grabado, equipos MOCVD, equipos epitaxiales de SiC, equipos de tratamiento t\u00e9rmico r\u00e1pido y otros campos.<\/p>\n

Equipos de grabado: el segmento de mercado m\u00e1s grande para componentes de carburo de silicio CVD es el de los equipos de grabado. Los componentes de carburo de silicio CVD en equipos de grabado incluyen anillos de enfoque, cabezales de ducha de gas, platos, anillos de borde, etc. Debido a la baja reactividad y conductividad del carburo de silicio CVD frente a los gases de grabado que contienen cloro y fl\u00faor, se convierte en un plasma. Material ideal para componentes como anillos de enfoque en equipos de grabado.<\/p>\n

Revestimiento a base de grafito: la deposici\u00f3n qu\u00edmica de vapor (CVD) a baja presi\u00f3n es actualmente el proceso m\u00e1s eficaz para preparar revestimientos densos de SiC. El espesor de los recubrimientos CVD-SiC es controlable y tiene la ventaja de la uniformidad. Las bases de grafito recubiertas de SiC se utilizan com\u00fanmente en equipos de deposici\u00f3n qu\u00edmica de vapor organomet\u00e1lico (MOCVD) para soportar y calentar sustratos monocristalinos. Son los componentes centrales y clave del equipo MOCVD.<\/p>\n

2. Piezas de carburo de silicio sinterizado de reacci\u00f3n<\/p>\n

Para materiales de SiC sinterizados por reacci\u00f3n (infiltraci\u00f3n reactiva o uni\u00f3n por reacci\u00f3n), la contracci\u00f3n de la l\u00ednea de sinterizaci\u00f3n se puede controlar por debajo del 1% y la temperatura de sinterizaci\u00f3n es relativamente baja, lo que reduce en gran medida los requisitos de control de deformaci\u00f3n y equipos de sinterizaci\u00f3n. Por lo tanto, esta tecnolog\u00eda tiene la ventaja de lograr f\u00e1cilmente componentes a gran escala y ha sido ampliamente utilizada en los campos de la fabricaci\u00f3n de estructuras \u00f3pticas y de precisi\u00f3n.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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