{"id":131382,"date":"2024-03-25T10:42:28","date_gmt":"2024-03-25T02:42:28","guid":{"rendered":"https:\/\/www.alpapowder.com\/131382\/"},"modified":"2024-03-25T10:42:29","modified_gmt":"2024-03-25T02:42:29","slug":"quelles-sont-les-exigences-de-la-poudre-dalumine-dans-les-applications-a-forte-valeur-ajoutee","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/www.alpapowder.com\/fr\/131382\/","title":{"rendered":"Quelles sont les exigences de la poudre d\u2019alumine dans les applications \u00e0 forte valeur ajout\u00e9e ?"},"content":{"rendered":"
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Particules d’alumine haute densit\u00e9 pour la croissance du cristal de saphir<\/p>\n
En fait, le saphir est un monocristal d\u2019alumine. Sa croissance utilise de la poudre d’alumine de haute puret\u00e9 avec une puret\u00e9 >99,995\u00a0% (commun\u00e9ment appel\u00e9e alumine 5N) comme mati\u00e8re premi\u00e8re. Cependant, en raison de la faible densit\u00e9 de tassement des particules d’alumine micronis\u00e9es, elle est g\u00e9n\u00e9ralement inf\u00e9rieure \u00e0 1 g\/cm3, la quantit\u00e9 de chargement d’un seul four est faible, ce qui affecte l’efficacit\u00e9 de la production. G\u00e9n\u00e9ralement, l’alumine est densifi\u00e9e en particules de haute densit\u00e9 gr\u00e2ce \u00e0 un traitement appropri\u00e9 avant d’\u00eatre charg\u00e9e pour faire cro\u00eetre les cristaux.<\/p>\n
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Abrasifs en nano-alumine pour abrasifs de polissage CMP<\/p>\n
Actuellement, les fluides de polissage CMP couramment utilis\u00e9s comprennent le fluide de polissage au sol de silice, le fluide de polissage \u00e0 l’oxyde de c\u00e9rium et le fluide de polissage \u00e0 l’alumine. Les deux premiers ont une faible duret\u00e9 de grain abrasif et ne peuvent pas \u00eatre utilis\u00e9s pour polir des mat\u00e9riaux de haute duret\u00e9. Par cons\u00e9quent, le fluide de polissage \u00e0 l’oxyde avec une duret\u00e9 Mohs de 9 aluminium est largement utilis\u00e9 dans le polissage de pr\u00e9cision des car\u00e9nages en saphir et des fen\u00eatres plates, des substrats en verre cristallis\u00e9, des c\u00e9ramiques polycristallines YAG, des lentilles optiques, des puces haut de gamme et d’autres composants.<\/p>\n
La taille, la forme et la r\u00e9partition granulom\u00e9trique des particules abrasives affectent toutes l\u2019effet de polissage. Par cons\u00e9quent, les particules d\u2019alumine utilis\u00e9es comme abrasifs de polissage chimico-m\u00e9canique doivent r\u00e9pondre aux exigences suivantes\u00a0:<\/p>\n
1. Afin d’obtenir une plan\u00e9it\u00e9 de l’angstr\u00f6m, la taille des particules d’alumine doit \u00eatre d’au moins 100 nm et la distribution doit \u00eatre \u00e9troite\u00a0;<\/p>\n
2. Afin de garantir la duret\u00e9, une cristallisation compl\u00e8te en phase \u03b1 est n\u00e9cessaire. Cependant, pour prendre en compte les exigences de taille de particule ci-dessus, le frittage doit \u00eatre effectu\u00e9 \u00e0 une temp\u00e9rature plus basse pour \u00e9viter une transformation compl\u00e8te en phase \u03b1 pendant la croissance des grains.<\/p>\n
3. \u00c9tant donn\u00e9 que le polissage des plaquettes n\u00e9cessite des exigences de puret\u00e9 extr\u00eamement \u00e9lev\u00e9es, les ions Na, Ca et magn\u00e9tiques doivent \u00eatre strictement contr\u00f4l\u00e9s, jusqu’au niveau ppm, tandis que les \u00e9l\u00e9ments radioactifs U et Th doivent \u00eatre contr\u00f4l\u00e9s au niveau ppb.<\/p>\n
4. Les fluides de polissage contenant de l’Al2O3 ont une faible s\u00e9lectivit\u00e9, une mauvaise stabilit\u00e9 de dispersion et une agglom\u00e9ration facile, ce qui peut facilement provoquer de graves rayures sur la surface de polissage. G\u00e9n\u00e9ralement, des modifications sont n\u00e9cessaires pour am\u00e9liorer sa dispersion dans le fluide de polissage afin d’obtenir une bonne surface polie.<\/p>\n
Alumine sph\u00e9rique \u00e0 faible \u00e9mission alpha pour le conditionnement de semi-conducteurs<\/p>\n
Afin de garantir la fiabilit\u00e9 des dispositifs semi-conducteurs et d’am\u00e9liorer la comp\u00e9titivit\u00e9 de base des produits, il est souvent n\u00e9cessaire d’utiliser de l’alumine sph\u00e9rique \u00e0 faible rayon \u03b1 comme mat\u00e9riau d’emballage. D’une part, il peut emp\u00eacher les pannes de fonctionnement des dispositifs de m\u00e9moire caus\u00e9es par les rayons \u03b1 et, d’autre part, il peut utiliser sa chaleur \u00e9lev\u00e9e. La conductivit\u00e9 offre de bonnes performances de dissipation thermique pour le dispositif.<\/p>\n
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C\u00e9ramique transparente \u00e0 l’alumine<\/p>\n
Tout d’abord, afin d’emp\u00eacher les impuret\u00e9s de la poudre Al2O3 de former facilement diff\u00e9rentes phases et d’augmenter le centre de diffusion de la lumi\u00e8re, entra\u00eenant une r\u00e9duction de l’intensit\u00e9 de la lumi\u00e8re projet\u00e9e dans la direction incidente, r\u00e9duisant ainsi la transparence du produit, le la puret\u00e9 de la poudre d’Al2O3 ne doit pas \u00eatre inf\u00e9rieure \u00e0 99,9\u00a0% et il doit s’agir d’\u03b1-Al2O3 avec une structure stable. Deuxi\u00e8mement, afin d’affaiblir son propre effet de bir\u00e9fringence, sa taille de grain doit \u00e9galement \u00eatre r\u00e9duite autant que possible. Par cons\u00e9quent, la taille des particules de la poudre utilis\u00e9e pour pr\u00e9parer les c\u00e9ramiques transparentes \u00e0 l’alumine doit \u00e9galement \u00eatre inf\u00e9rieure \u00e0 0,3 \u00b5m et avoir une activit\u00e9 de frittage \u00e9lev\u00e9e. De plus, afin d’\u00e9viter l’agglom\u00e9ration en grosses particules et la perte des avantages des petites particules d’origine, la poudre doit \u00e9galement r\u00e9pondre aux exigences de dispersion \u00e9lev\u00e9e.<\/p>\n
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Substrat c\u00e9ramique d’alumine de communication haute fr\u00e9quence<\/p>\n
Les c\u00e9ramiques d’alumine de haute puret\u00e9 sont actuellement le mat\u00e9riau de substrat d’emballage le plus id\u00e9al et le plus largement utilis\u00e9 en raison de leurs bonnes propri\u00e9t\u00e9s di\u00e9lectriques, de leur capacit\u00e9 de charge rigide et de leur r\u00e9sistance \u00e0 l’\u00e9rosion environnementale. Cependant, la performance principale des substrats en alumine augmente avec l’augmentation de la teneur en alumine. Afin de r\u00e9pondre aux besoins des communications haute fr\u00e9quence, la puret\u00e9 des substrats en c\u00e9ramique d’alumine doit atteindre 99,5 %, voire 99,9 %.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"
En tant que mat\u00e9riau inorganique extr\u00eamement largement utilis\u00e9, l\u2019alumine de qualit\u00e9 non m\u00e9tallurgique a \u00e9t\u00e9 subdivis\u00e9e en plus de 400 vari\u00e9t\u00e9s.<\/p>\n","protected":false},"author":7,"featured_media":131364,"comment_status":"closed","ping_status":"closed","sticky":false,"template":"","format":"standard","meta":{"_acf_changed":false,"footnotes":""},"categories":[843],"tags":[],"class_list":["post-131382","post","type-post","status-publish","format-standard","has-post-thumbnail","hentry","category-nouvelles-de-lindustrie-fr"],"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/www.alpapowder.com\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/131382","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/www.alpapowder.com\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/posts"}],"about":[{"href":"https:\/\/www.alpapowder.com\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/types\/post"}],"author":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.alpapowder.com\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/users\/7"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.alpapowder.com\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=131382"}],"version-history":[{"count":0,"href":"https:\/\/www.alpapowder.com\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/131382\/revisions"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.alpapowder.com\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/media\/131364"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/www.alpapowder.com\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=131382"}],"wp:term":[{"taxonomy":"category","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.alpapowder.com\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/categories?post=131382"},{"taxonomy":"post_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.alpapowder.com\/fr\/wp-json\/wp\/v2\/tags?post=131382"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}