Polissilício de grau eletrônico: o “alimento” da indústria da informação eletrônica
Com o vigoroso desenvolvimento da indústria fotovoltaica, a indústria nacional de polissilício atingiu a maior produção mundial em pouco mais de dez anos, e o custo de produção também atingiu o nível avançado do mundo. O material polissilício de alta pureza é a matéria-prima básica para a indústria da informação e a indústria de geração de energia solar fotovoltaica, e muitos países desenvolvidos do mundo o consideram um material estratégico.
Os requisitos de pureza do polissilício de grau eletrônico são extremamente altos, e é a substância mais pura que pode ser obtida pela industrialização humana.
O polissilício de grau eletrônico pode ser dividido em polissilício de grau eletrônico para fusão por zona e polissilício de Czochralski de grau eletrônico. Os requisitos de qualidade do polissilício para fusão por zona de grau eletrônico são mais rigorosos. O silício monocristalino produzido pelo método de fusão por zona tem baixo teor de oxigênio e carbono, baixa concentração de portadores e alta resistividade. É usado principalmente na fabricação de IGBTs, retificadores de alta tensão, tiristores e transistores de alta tensão. e outros dispositivos semicondutores de alta tensão e alta potência. As pastilhas de silício monocristalino produzidas pelo método Czochralski são amplamente utilizadas em memórias de circuitos integrados, microprocessadores, chips de telefones celulares, transistores de baixa tensão, dispositivos eletrônicos e outros produtos eletrônicos. %acima de.
Além disso, o equipamento de teste de polissilício eletrônico do meu país ainda depende de importações. Do lado da fabricação, meu país basicamente resolveu a substituição localizada de equipamentos e materiais relacionados. No entanto, o equipamento de teste principal para produtos de polissilício é completamente dependente de importações, como espectrômetro infravermelho de transformada de Fourier de baixa temperatura LT-FTIR, espectrômetro de massa de plasma indutivamente acoplado ICP-MS, etc., e o processo de teste requer níveis extremamente altos de teste pessoal.
A julgar pelo atual desenvolvimento internacional da tecnologia de produção de polissilício de grau eletrônico, os processos de produção incluem principalmente o método de silano, método de deposição gás-líquido, leito fluidizado e Siemens aprimorado.
O custo de produção do método do silano é alto, e o silano utilizado é explosivo, inflamável e tem pouca segurança. Mesmo à temperatura ambiente, haverá risco de incêndio. O método de deposição gás-líquido foi desenvolvido e controlado pelo Japão. Na produção, um reator tubular é usado principalmente, e a condição de temperatura de operação é controlada a 1500 °C para gerar silício líquido diretamente no gás. Atualmente, ainda está em fase de pesquisa e teste. Não usado para produção em massa. O método de processo de leito fluidizado é principalmente para realizar um controle abrangente de impurezas do produto, de modo que não pode produzir polissilício de grau eletrônico de alta qualidade.
O polissilício de grau eletrônico é o material estratégico mais básico no setor de informações eletrônicas, relacionado à economia nacional, sociedade e segurança de defesa nacional do meu país. Como produzir de forma contínua e estável polissilício de grau eletrônico de alta pureza para atender às necessidades das empresas a jusante de materiais de silício de grau eletrônico é um importante tópico de pesquisa enfrentado pelas empresas de polissilício. É necessário controlar rigorosamente todos os processos em todo o processo de produção de polissilício, reduzir ao mínimo vários fatores que podem causar poluição e implementar operações enxutas e refinadas no processo de operação, mudar maus hábitos e melhorar a gestão. O polissilício de grau eletrônico tem um lugar no mercado.