{"id":119073,"date":"2022-09-30T10:15:04","date_gmt":"2022-09-30T02:15:04","guid":{"rendered":"https:\/\/www.alpapowder.com\/119073\/"},"modified":"2022-09-29T14:33:13","modified_gmt":"2022-09-29T06:33:13","slug":"tecnologia-de-producao-de-po-de-silica-esferica-de-alta-pureza-e-baixa-radioatividade","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/www.alpapowder.com\/pt-pt\/119073\/","title":{"rendered":"Tecnologia de produ\u00e7\u00e3o de p\u00f3 de s\u00edlica esf\u00e9rica de alta pureza e baixa radioatividade"},"content":{"rendered":"

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O p\u00f3 de sil\u00edcio esf\u00e9rico \u00e9 amplamente utilizado em embalagens de circuitos integrados devido \u00e0 sua excelente fluidez e baixo coeficiente de expans\u00e3o t\u00e9rmica. Com o desenvolvimento da tecnologia de empacotamento de circuitos integrados em grande e ultra grande escala, a fim de evitar erros leves em dispositivos semicondutores, s\u00e3o obtidos elementos radioativos. Em particular, o microp\u00f3 de s\u00edlica esf\u00e9rica de alta pureza e baixa radioatividade com teor de ur\u00e2nio (U) (fra\u00e7\u00e3o de massa) inferior a 1 \u00d7 10-9 tornou-se um hotspot de pesquisa nos \u00faltimos anos.<\/p>\n

Primeiro, o elemento de ur\u00e2nio (U6 +) no p\u00f3 de sil\u00edcio ultrafino \u00e9 disperso na pasta \u00e1cida e, em seguida, o dispositivo de adsor\u00e7\u00e3o mesoporosa composto de cer\u00e2mica de SiO2<\/a> e favo de mel \u00e9 usado para adsorv\u00ea-lo para completar a sele\u00e7\u00e3o e purifica\u00e7\u00e3o do material, de modo que o sil\u00edcio ultrafino p\u00f3 O conte\u00fado total do elemento ur\u00e2nio (U) \u00e9 reduzido para menos de 1\u00d710-9, e o p\u00f3 de s\u00edlica esf\u00e9rica de alta pureza e baixa radioatividade \u00e9 finalmente obtido pelo m\u00e9todo de fus\u00e3o por chama e tecnologia de p\u00f3s-processamento n\u00e3o poluente. O dispositivo de adsor\u00e7\u00e3o mesoporosa pode ser facilmente e rapidamente separado da pasta ap\u00f3s a adsor\u00e7\u00e3o ser conclu\u00edda e pode realizar reciclagem e amplifica\u00e7\u00e3o em larga escala; e as amostras obtidas t\u00eam as caracter\u00edsticas de alta esfericidade e distribui\u00e7\u00e3o de tamanho de part\u00edcula control\u00e1vel e, ao mesmo tempo, o desempenho de aplica\u00e7\u00e3o, como bom desempenho de fluidez.<\/p>\n

1. Sele\u00e7\u00e3o e purifica\u00e7\u00e3o de micross\u00edlica<\/p>\n

O primeiro passo \u00e9 pr\u00e9-tratar o microp\u00f3 de sil\u00edcio contendo ur\u00e2nio (U)<\/p>\n

O segundo passo \u00e9 preparar um dispositivo de adsor\u00e7\u00e3o mesoporosa<\/p>\n

A terceira etapa, adsor\u00e7\u00e3o e purifica\u00e7\u00e3o<\/p>\n

No experimento, p\u00f3 de sil\u00edcio comum com um teor de ur\u00e2nio (U) de 9,7 \u00d7 10-9 foi selecionado para purifica\u00e7\u00e3o. Se apenas \u00e1gua deionizada fosse usada para purificar o p\u00f3 de sil\u00edcio ultrafino, o conte\u00fado do elemento de ur\u00e2nio (U) no material era apenas de 9,7 \u00d7 10-9. \u00c9 reduzido para 9,0 \u00d7 10-9; quando o p\u00f3 de sil\u00edcio ultrafino \u00e9 disperso com uma solu\u00e7\u00e3o de pH\u22644,5, o conte\u00fado do elemento de ur\u00e2nio (U) no p\u00f3 de sil\u00edcio purificado pode ser reduzido para 7,3\u00d710-9.<\/p>\n

No entanto, devido \u00e0 falha na remo\u00e7\u00e3o do elemento de ur\u00e2nio hexavalente disperso na pasta \u00e1cida, o elemento de ur\u00e2nio \u00e9 reabsorvido na superf\u00edcie das part\u00edculas de microp\u00f3 de sil\u00edcio durante o processo de sedimenta\u00e7\u00e3o e secagem, o que reduz o efeito de purifica\u00e7\u00e3o. elemento de ur\u00e2nio. Ap\u00f3s o uso do dispositivo de adsor\u00e7\u00e3o mesoporosa, o elemento hexavalente de ur\u00e2nio (U6+) disperso na pasta pode ser efetivamente adsorvido pelo aerogel \u00e0 base de SiO2<\/a> e diminu\u00eddo gradualmente com o aumento dos tempos de adsor\u00e7\u00e3o. Ap\u00f3s tr\u00eas experimentos de purifica\u00e7\u00e3o e separa\u00e7\u00e3o, o conte\u00fado do elemento de ur\u00e2nio (U) pode ser reduzido para 6\u00d710-10. Isso mostra que quando a pureza do material n\u00e3o pode atender aos requisitos para a produ\u00e7\u00e3o direta de p\u00f3 de s\u00edlica esf\u00e9rica de alta pureza e baixa radioatividade, o teor de ur\u00e2nio tamb\u00e9m pode ser reduzido usando a tecnologia de purifica\u00e7\u00e3o seletiva. Os resultados experimentais tamb\u00e9m mostram que o ur\u00e2nio no microp\u00f3 de sil\u00edcio pode ser efetivamente separado por lavagem \u00e1cida, e o ur\u00e2nio separado pode ser adsorvido eficientemente pelo material de adsor\u00e7\u00e3o mesoporoso. Com base nesta tecnologia de processo, a produ\u00e7\u00e3o em lote subsequente pode ser realizada.<\/p>\n

2. Projeto de esferoidiza\u00e7\u00e3o e distribui\u00e7\u00e3o de tamanho de part\u00edcula<\/p>\n

Primeiro, adicione prote\u00e7\u00e3o cer\u00e2mica de zirc\u00f4nia \u00e0 superf\u00edcie de todas as partes com as quais o p\u00f3 de sil\u00edcio ultrafino possa entrar em contato no processo subsequente para garantir que o elemento de ur\u00e2nio (U) n\u00e3o seja introduzido no processo subsequente para causar polui\u00e7\u00e3o secund\u00e1ria e, em seguida, coloque o p\u00f3 de sil\u00edcio ultrafino no forno de esferoidiza\u00e7\u00e3o, atrav\u00e9s do campo de temperatura (1800 ~ 2200 \u2103), o campo de fluxo de ar (com oxig\u00eanio como g\u00e1s de transporte e oxidante, g\u00e1s natural como g\u00e1s, a rela\u00e7\u00e3o da taxa de fluxo de o g\u00e1s e o oxidante \u00e9 1,05) e o fluxo de material (50 ~ 500kg\/h) O controle da esferoidiza\u00e7\u00e3o \u00e9 realizado, e o p\u00f3 de sil\u00edcio ultrafino permanece no campo de temperatura por 0,1-3s sob uma certa press\u00e3o de ar. Os produtos esferoidizados s\u00e3o submetidos \u00e0 classifica\u00e7\u00e3o e composi\u00e7\u00e3o do tamanho das part\u00edculas, e a distribui\u00e7\u00e3o do tamanho das part\u00edculas correspondente \u00e9 projetada de acordo com os diferentes requisitos de embalagem.<\/p>\n

O processo de produ\u00e7\u00e3o reduz at\u00e9 certo ponto a depend\u00eancia excessiva de mat\u00e9rias-primas de alta pureza para a produ\u00e7\u00e3o de microp\u00f3 de s\u00edlica esf\u00e9rica de alta pureza e baixa radioatividade.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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